BG-401A曝光机（光刻机）主要用于中小规模集成电路、声表面波器件和其它各种半导体元器件制造工艺中的单面对准及曝光。最大兼容4英寸晶圆。

主要技术特点

对准工作台：
对准精度高，漂移小。精密楔形误差补偿机构实现三点找平，找平力小，延长掩模版使用寿命。

曝光系统：
采用柱体蝇眼透镜和高能力集光的椭球反射镜等精密光学件，具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。

分离视场显微镜：
在X、Y方面进行大范围扫描观察，可进行单视场或双视场切换，提高对准效率和套准精度，同时兼容CCD成像显示功能。

电气控制:
采用可编程控制器（PLC）、LCD显示屏，操作方便，汞灯电源易于触发，可靠性高。该设备的关键件采用进口或专业厂家制造，气动元件采用SMC的产品，提高了设备的稳定性、可靠性，同时提供个性化服务。